| 제작사명 / 모델명 |
테라리더 / PEALD and Power ALD |
| 설치장소 |
부산광역시 영도구 태종로 727 국립한국해양대학교 (층: 5층 / 호실: 508호)
지도보기
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| 사용용도 |
시험 |
| 장비설명 |
1. 장비명 : 플라즈마 & 파우더형 원자층 증착 시스템
1) 반도체 제조 공정 중 핵심요소 기술인 원자층 증착(Atomic Layer Deposition) 장비로 박막기술에서 요구하는 에너지와 소재산업 전반에 걸친 차세대 고부가가치 응용기술로 다양한 소재표면에 원하는 물질을 원자층(Atomic Layer) 단위로 형성할 수 있음.
2) 본 장비의 구성은 두가지 형태의 ALD로 이루어져 있음.
3) PEALD(Plasma Enhanced ALD)의 경우 반도체 분야(반도체, 디스플레이, 고품질 절연막, Barrier층 형성등)에 활용 가능하며, 기술 특성상 반도체 분야에만 활용이 국한되지 않으며, Particel ALD(Powder type ALD)의 경우에는 특히 배터리 및 연료전지 성능 및 내구성 극대화에 핵심적인 역할을 하여 현재 많은 각광을 받고 있음.
2. 용도
1) 반도체 박막반도체 박막 소재 증착 분야
2) 반도체 분야에만 활용이 국한되지 않으며, 다양한 분야에 활용이 가능함. 특히 배터리 및 연료전지 성능 및 내구성 극대화 연구에 핵심적인 역할이 가능함
3) 부식 방지, 방수, 방오 등 다양한 기능성 표면을 구현하는데 활용
4) 해양 소재/부품/장비 관련 원천 기술을 개발
5) 학부 연구생, 대학원 교육 관련 프로그램과 연계하여 지역 정주형 차세대 연구 인력 양성 등 |
| 구성 및 성능 |
1.구성
플라즈마 원자층 증착 시스템 - 1SET
파우더형 원자층 증착 시스템- 1SET
2. 성능
플라즈마 원자층 증착 시스템
- RF Plasma shower head gas line(Ar) RF connector
- 장비 크기: 800 x 900 x 1800mm
- 증착샘플크기: 100 x 100mm
- 샘플온도: 시료크기맞춤형: Heater(Max. 350℃, Resolution 0.1℃)
- Heater controller – PID control
- Precursor용 canister
- High temperature(150℃)
- Volume: 100cc
- Inlet/Outlet type (like bubbler)
- Gas supply line (MFC – Ar,H2,O2,N2)
- MFC Readout 4set
- 고성능 Ozone 발생기(60g/m3)
- Vacuum pump(5E-2 ~ 760torr)
- Vacuum gauge(~10torr range)
- RF power supply
- Main controller
- 제어/모니터링 시스템(PC 및 프로그램 포함)
- 전원: 단상 220V 30A
파우더형 원자층 증착 시스템
- Reactor
- Agitiation reactor
- Fluidized bed reactor
- 장비 크기: 800 x 900 x1800mm
- 샘플 온도: Max. 350℃, Resolution 0.1℃
- Heater controller – PID Control
- Precursor용 Canister
- High Temperature(150℃)
- Volume: 100cc
- Inlet/Outlet type (like bubbler)
- Gas supply line (MFC – Ar,H2,O2,N2)
- MFC Readout 4set
- 고성능 Ozone 발생기(60g/m3)
- Vacuum pump(5E-2 ~ 760torr)
- Vacuum gauge(~10torr range)
- RF power supply
- Main controller
- 제어/모니터링 시스템(PC 및 프로그램 포함)
- 전원: 단상 220V 30A |
| 사용 예시 |
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